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2021年02月09日发布

行业动态：

光刻机制造商ASML近日发布了2020年Q4报告及全年的业绩指引，营收和净利润同比均有大幅增长。

光刻巨头业绩再创新高：2020Q4光刻机制造商ASML营收和净利润同比均大幅增长，营收达42.54亿欧元，同比增长7.49%，Q4净利润13.51亿欧元，同比增长27.21%。公司全年营收达139.79亿欧元，毛利率48.6%，较2019年44.7%有所提升。公司业务主要包括三大板块，即光刻机、电子计量系统和计算光刻，公司在高端光刻领域一枝独秀，龙头地位稳固。

行业优质资源深度绑定：公司通过收购Cymer，入股蔡司SMT，获取了激光光源、镜头等光刻机关键部件的领先技术，这两次并购加速了公司EUV光源和光学系统的研发进程。公司的主要客户是内存和逻辑芯片制造厂商，英特尔、三星、台积电、海力士等芯片头部厂商都是公司的重要客户，整体市场集中度较高。自2012年开始，英特尔、台积电、三星陆续投资ASML共计约39亿欧元，取得23%的股份，并向其EUV研发项目提供资金13.8亿欧元，享受优先供货权。

技术优势冠绝全球：光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的，是现代工业的集大成者，由激光光源、物镜系统、机台设计等十一大模块组成，每个模块近乎集成了各国的顶尖技术。ASML光刻机主要包括三款：EUV、浸入式DUV、干式DUV，公司在中高端领域领先，在最高端EUV领域垄断，光刻机制造及组装领域积累的技术优势冠绝全球。

国产替代星星之火已起：光刻工艺包括气相成底膜、旋转涂胶、软烘、对准和曝光、曝光后烘焙、显影、坚膜烘焙、显影检查等环节，耗时约占整个硅片制造的50%。除光刻机外，光刻胶、气体、化学品、RTP、PVD设备等光刻机配套设施亦不可或缺。在国内相关产业链企业中，上海微电子日前宣称2022年交付28nm浸没式DUV光刻机，负责光刻机整机集成；ArF光源系统则由科益虹源负责；物镜系统方面，由国望光学承担；双工作台则由华卓精科负责研发；浸没系统则由启尔光电承担。从配套材料及设备来看，光刻胶方面，南大光电自产光刻胶已通过客户验证；设备方面，北方华创相关PVD/CVD设备已具备28/14nm技术；掩模版领域，华润微已具备0.13μStepper Mask生产能力。在国内光刻产业链逐步完善和突破下，预计下游需求的日益放大将进一步带动国产替代的加速。

EUV市场前景广阔：数字基建加速、物联网创新、新能源汽车普及、5G网络渗透等下游多领域需求的快速放大都推动着整个半导体产业链及其国产替代的快速发展。在先进制程领域，消费电子已进入5G时代，5nm制程芯片需求大幅上升；汽车电子快速崛起，应用智能驾驶的AI芯片要求更高的运算速率，EUV需求发展势头强劲。台积电、英特尔、三星、中芯国际等晶圆代工厂商纷纷加大资本支出。台积电计划投入280亿美元用于部署EUV尖端制造工艺，高端光刻机正成为产业的战略制高点。据ASML财报显示，2020年底,EUV曝光晶圆已超过2600万片，第四季度共交付9台EUV，全年交付量达31台，销售额超45亿欧元。

产业有望迎来上市潮：2月2日，合肥芯碁微电子装备股份有限公司科创板IPO注册获中国证监会批准。公司以微纳直写光刻为技术核心，产品直接作用于光刻成像，属于光刻机模块的重要组成部分，在PCB掩膜和OLED束写领域位于行业领先水平。此外，据上交所官网显示，光刻机双工件台生产商北京华卓精科科技公司也已进入IPO受理阶段，其产品双工件台、超精密测控等设备有望打破ASML的垄断。随着国产光刻机产业链的不断发展以及科创板上市的政策青睐，整体板块有望迎来上市潮。我们认为，光刻机产业大陆细分领域先行者的赛道优势显著，半导体全产业链自主可控大势所趋，行业高速成长确定性较高，相关企业有望深度受益。

风险因素：光刻机研发不及预期的风险，美国针对性压制的风险，产业配套研发不及预期的风险。