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2021年06月30日发布

薄膜生长是采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程，常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。 根据工作原理不同，薄膜沉积生长设备可分为：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积（ CVD）和外延等类别。大部分绝缘薄膜使用 CVD，金属薄膜常用 PVD（主要是溅射）。 CVD 的使用越来越广泛，基于 CVD发展的 ALD 更是行业升级的技术方向。

2020 年全球薄膜设备市场达到 138 亿美元，占 IC 制造设备 21%；其中主要是CVD 和 PVD，合计占 IC 制造设备 18%。 其中， CVD 市场规模高度 89 亿美元，主流是设备包括 PECVD、 Tube CVD、 LPCVD 和 ALD 等。整个薄膜市场市占率最高的是 AMAT。高端领域如 ALD 受 ASM、 TEL 和 Lam 等海外龙头主导。国内布局 IC制造领域薄膜设备的主要国产厂商包括北方华创和沈阳拓荆。

CVD 市场主要由海外龙头主导，国内北方华创、沈阳拓荆积极布局。 根据 Gartner数据，全球 CVD 市场前五大供应商包括 AMAT（ 28%）、 Lam Research（ 25%）、TEL（ 17%）、 Kokusai（原日立高新， 8%）、 ASM（ 11%）。国内半导体设备龙头北方华创、沈阳拓荆在该领域也有布局。 CVD 市场主要由海外龙头主导，国内北方华创、沈阳拓荆积极布局从 PVD 市场格局来看， AMAT 一家独大，长期占据约 80%的市占率， 2020 年北方华创的半导体 PVD 设备全球市占率为 3%，属于国内领先地位。

国内薄膜厂商加速导入，国产化率仍有较大提升空间。 根据招标网的数据统计，长江存储在 20192020 年采购薄膜类设备约每年 200 多台（主要是 CVD 和 PVD），主要类别以 CVD 为主，其中原子层沉积 7080 台。从国产替代率而言，溅镀（ PVD类）北方华创供应数量比重较高，合计达到将近 20%； CVD 类国产替代率较低，主要国产供应商沈阳拓荆供应占比约 23%。北方华创、沈阳拓荆在华虹无锡、华力集成项目合计国产化率约 1015%。

北方华创引领国产高端集成电路 PVD 薄膜工艺，公司多项产品进入国际供应链体系。 公司 PVD 产品布局广泛，近几年陆续推出了 TiN PVD、 AIN PVD、 Al Pad、 ALD等 13 款自主研发的 PVD 产品并成功产业化。公司自主设计和生产的 exiTin H630 TiN金属硬掩膜PVD系统是国内首台专门针对55-28nm制程12寸金属硬掩膜设备。 2020年，公司 CuBS PVD 在客户招投标中获得重复订单。北方华创先后推出 THEORIS 302LPCVD、 HORIS L6371 多功能 LPCVD 等多个系列产品。

沈阳拓荆拥有三个完整系列 CVD 产品线，累计出货量超过 100 台套。 拓荆科技成立于 2010 年 4 月，多次承担国家专项，公司拥有 12 英寸 PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、 ALD（原子层薄膜沉积设备）、 SACVD（次常压化学气相沉积设备）三个完整系列产品 2020 年公司累计出货量超过 100 台套。

风险提示： 国产替代进展不及预期、全球贸易纷争影响、下游需求不确定性。