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施耐德-I-LINE B系列高电流母线槽，介绍如下： 1、分子渗透技术专题 母线性能最薄弱的环节在于电气连接位置（如接头连接部位，插 接口部位等），在这些区域： 1).温升高 2).能耗集中 3).故障多发 因此，提高电气连接性能成为母线设计的关键。 I-LINE ® B系列高电流母线采用施耐德电气独有的分子渗透技术，使 铝、铜、银之间的过渡区域形成合金结构，完全消除了不同金属 之间的电位差，成功突破了母线电气连接瓶颈，将电气传输性能 提升到新的高度。 60年积铢累寸的不断进取，施耐德电气 向亚太市场倾力推出I-LINE ® B系列高电流 母线，可广泛应用于能源及基础设施、工 业、数据中心，商业及民用建筑的低压配 电系统，为您带来稳定可靠的电力供应， 并服务于您的智能供电系统，真正助您节 能增效。 2、应用广泛 1).欧美超过二十年的应用历史 施耐德母线发展历程 2).1942年，施耐德推出第一种高电流母线槽 3).1955年，开始为客户提供全系列Canalis母线产品 4).1970年，推出新一代I-LINE高电流母线 5).1981年，施耐德独创分子渗透连接技术成功应用于中电流母线 6).1997年，采用分子渗透连接技术的高电流母线，在欧洲开始广 泛应用 7).2008年，I-LINE ® B系列高电流母线开始为亚太地区客户输送可 靠电力 …… 8).满足800－5000A各种电流等级要求 9).多种灵活连接方案，与所有低压配电设备无缝对接