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2021年07月19日发布

光刻：将掩膜板上的图形曝光至预涂了光刻胶的晶圆表面上。 光刻胶（正胶）受到照射的部分，将发生化学变化，从而易溶于显影液。光刻机是芯片制造的支柱设备，一般分为准直透镜系统（EUV 除外）、掩膜板对准系统、曝光系统等。光刻机设备的核心零部件包括光源、镜头以及精密结构等。

光刻机演变史，目前以步进式为主， EUV 应用于先进制程。 光刻机在 1985年之前，以 g 线（436nm）为主； 1985 年以后，出现少量 i 线（365nm）光刻机； 1990 年开始出现 DUV 光刻机；踏入 21 世纪， 193nm 的深紫外线开始使用。 13.5nm 的 EUV 在近十年兴起，应用于先进制程。 EUV 的高分辨率大幅降低重复曝光所需要的沉积、刻蚀等工艺步骤。 光刻机从分类方式的演变，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。

2020 年，全球光刻机市场约 135 亿美元，占全球半导体制造设备市场21%。 光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。

光刻机单机价值量高，每年出货数量约 300400 台，其中 EUV 的供应比较有限。 根据 ASML、 Nikon、 Canon 三家光刻机财报数据统计，近两年全球光刻机每年出货量大约在 300400 台之间，整体均价约 0.3 亿美元。其中主要产品是 KrF 约 90100 台， ArFi 约 90100 台。近几年 EUV 出货量在逐步增长，全球仅有 ASML 具备供应能力，每年出货 30~50 台，均价超过 1亿美元。

ASML 主导全球光刻机市场。 从光刻机格局来看， 2020 年 ASML 占据全球光刻机市场 84%的市场空间， Nikon 约 7%， Canon 约 5%。 ASML 具有高度的垄断地位，并且由于 EUV 跨越式的升级进步， ASML 在技术上的领先性更加明显。

全球光刻机龙头 ASML，高研发、高利润率。 ASML 在 2020 年营业收入 140亿美元，其中 75%的收入来自于销售设备， 25%的收入来自于服务。公司综合毛利率 52%，营业利润率 35%，净利率 32%。全年平均 ROE 约 27%。公司研发投入 22 亿美元，占比约 16%。 ASML 保持高强度研发投入，并且服务收入占比不断提高，巩固垄断地位。

上海微 90nm 光刻机项目已经正式通过验收。上海微在 2002 年成立。2006年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。 2008 年十五光刻机重大科技专项通过了国家科技部组织的验收。 2009 年交付首台先进封装光刻机产品。 2013 年公司国产首台用于 2.5 代 AM-OLED TFT 电路制造的光刻机成功交付用户。 2016 年，公司首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户。 2018 年，公司 90nm 光刻机项目通过正式验收。

风险提示： 国产替代进展不及预期、全球贸易纷争影响、下游需求不确定性