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底层国产化(2)丨拓荆科技上市,关注薄膜沉积设备国产化进程!

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概述

2022年04月25日发布

薄膜沉积:前道三大核心设备之一,全球市场规模迈向300亿美金。薄膜沉积工艺是半导体制造中的关键工艺,在很大程度上决定了芯片的性能和良率,薄膜沉积设备作为晶圆制造核心设备,价值量占比高、市场空间广阔。根据SEMI数据,薄膜沉积设备作为晶圆制造的三大主设备(光刻、刻蚀、薄膜沉积)之一,其投资规模占晶圆制造设备总投资的25%,根据MaximizeMarketResearch数据,2020年全球半导体薄膜设备市场规模为172亿美元,受益于芯片结构向3D立体化方向发展,薄膜设备的需求将加速成长,预计到2025年市场将达到340亿美元,2020-2025年CAGR超过14%,同时,我们测算2021年国内半导体薄膜沉积设备市场规模至少为55亿美元,市场空间广阔。

全球格局:AMAT/LAM/TEL寡占领先,2021年国产化率不足10%。薄膜沉积作为晶圆制造的关键设备,技术、人才、研发壁垒较高,AMAT、LAM、TEL、ASM等海外企业寡头垄断市场,CVD设备方面,AMAT、LAM、TEL三足鼎立,国内主要企业为拓荆科技、北方华创,而中微公司在应用于LED的MOCVD设备领域拥有较高份额;PVD设备方面,AMAT一家独大,国内北方华创正逐步开启国产化之路;ALD设备方面,ASM、TEL寡头垄断市场,国内拓荆科技、北方华创、盛美上海均有布局。按2021年的收入占比大致推算,国内企业的半导体薄膜设备市占率不足10%,因此,当前半导体薄膜设备国产化处于起步不久的阶段,市占率有较大提升空间。

中国厂商:拓荆/华创/中微/盛美多点开花,薄膜沉积设备投资正当时。国内半导体薄膜设备龙头企业在不同优势领域持续发力,国产化呈现全面推进的态势,拓荆科技、北方华创分别在CVD和PVD的优势细分领域已进入1-10的成长阶段,先发优势显著,同时部分后进入企业正开拓新领域,处于0-1的突破阶段,具备较大的成长弹性。整体来看,国内企业在半导体薄膜设备布局全面,新产品导入进展良好,将承接旺盛的国产化需求持续成长,重点关注产品拓张/技术升级/具备先发优势的细分领域核心企业。

?重点公司

拓荆科技(CVD龙头)、北方华创(PVD龙头)、中微公司(MOCVD龙头)、盛美上海、屹唐股份(未上市)。

风险提示

疫情持续蔓延风险;下游需求不及预期风险;供应链不稳定风险。

理工酷提示:

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